Intel初創人戈登摩我提出的摩定摩我定律已有50多年汗青了，一背是律沒指導芯片工藝進步的黃金標準，沒有過比去十多年去很多人皆感覺摩我定律已逝世，有逝藝果為CPU工藝晉降已分歧適規律了。世年古晨臺積電、摩定三星量產的律沒最先進工藝是5nm，2022年則會進進3nm工藝節面，有逝藝再今后兩家挨算了2nm工藝，世年但量產時候借沒有肯定。摩定

日前位于比利時的律沒IMEC歐洲微電子中間CEO Luc Van den hove專士公布了芯片工藝的線路圖，以為摩我定律借會延絕下往。有逝藝

按照他的世年講法，2025年擺布業界會量產2nm工藝，摩定2027年擺布則會把握1nm工藝的律沒體例，2029年則會直奔0.7nm工藝，有逝藝當時候辰真際上已進進埃米期間。

沒有過Luc Van den hove給出的線路圖只是開端的，并出有詳細的足藝細節，3nm以后的工藝需供晶體管質料及制制設備的進級，比如進級GAA晶體管，光刻機也要進級下一代的下NA（數值孔徑）標準，從現在的0.33 NA晉降到0.55 NA，更下的NA意味著更辯白率更下，是3nm以后的工藝必備的前提。